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Récipient de lavage scellé pour machine Wash & Cure Pour imprimantes 3D:Wash & Cure 2.0 La plateforme peut résister à

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Description

La plateforme peut résister à une impression de haute intensité et est sans corrosion

Plus grande puissance de Nettoyage Plusieurs méthodes de nettoyage peuvant apporter un nettoyage de modèle plus flexible et éviter le contact avec la résine

et en même temps

Anycubic Photon Mono M5s

La chaleur se dissipe à travers un radiateur sans nécessiter de ventilateur de refroidissement

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